溅涂装置,溅射装置
磁控反应溅射镀膜设备充气系统设计的几个问题
来源:互联网摘选本设备由以下系统组成:注入系统,有溅射离子源及不对称三电极加速管,能量50keV,流强4mA(N~+);
来源:互联网摘选Three pole reaction sputtering has the properties of simple equipment, easy process and fined film.
三极反应溅射具有设备简单,工艺简便,镀层致密等特点。
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